三星宣布 7nm 和 11nm 半导体工艺：2018 年推出

今天，三星宣布，新加入了 11nm LPP 工艺，其实就是改良后的 14nm LPP 马甲，不过性能提升了 15%，单位面积的功耗降低了 10%。

三星表示，10nm 用于旗舰手机，11nm 用于中高端，形成差异化，预计 2018 年上半年在市场投放。

与此同时，三星也成为了市场上最先确认 7nm 的企业，其 7nm LPP 定于 2018 下半年量产，采用 EUV 极紫外光刻技术。

EUV 虽然困难重重，但 ASML 已经开始出货定型的光刻机。三星也表示，从 2014 年开始，基于 EUV 处理了 200000 片晶圆，目前在 256Mb SRAM（静态随机存储器）良率已经达到了 80%。

关于 11nm 和 7nm 更进一步的细节，三星定于 9 月 15 日在东京举办的半导体会议上揭示，未来的技术路线图也会更新。